In Situ Process Control during Wet-Chemical Etching of Heteroepitaxial III–V Layers Using Reflection Anisotropy Spectroscopy
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Autor(en):
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Schmitt, Erica A.; Guidat, Margot; Flieg, Marco; Grutke, Jonas; Diecke, Maximilian; Möller, Kristof; Euchner, Holger; May, Matthias M.
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Tübinger Autor(en):
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Erschienen in:
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Journal of Physical Chemistry A
(2026-07-31), Bd.
130,
H.
32,
S.
6465-6474
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Verlagsangabe:
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ACS Publications
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Sprache:
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Englisch
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Referenz zum Volltext:
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https://doi.org/10.1021/acs.jpca.6c02573
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ISSN:
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1089-5639
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DDC-Klassifikation:
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050 - Zeitschriften, fortlaufende Sammelwerke
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Dokumentart:
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Wissenschaftlicher Artikel
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